集成电路制造：建设项目环境影响评价用表格汇总.docx

《集成电路制造：建设项目环境影响评价用表格汇总.docx》由会员分享，可在线阅读，更多相关《集成电路制造：建设项目环境影响评价用表格汇总.docx（13页珍藏版）》请在优知文库上搜索。

1、集成电路制造：建设项目环境影响评价用表格汇总附录A工程分析相关附表建设项目组成分析应符合表A.1,主要设备分析应符合表A.2,主要原辅材料及燃料分析应符合表A.3o表A.1建设项目组成表类别序号名称主要建设内容备注主体工程1生产厂房逐项说明主体工程的建设内容、功能分区、生产能力和生产规模。1纯水制备系统说明规模、主要参数、建设位置。辅助工程2冷却塔系统说明规模、主要参数、建设位置。公用工程1给水说明生产生活所需新鲜或再生水的来源。2排水说明企业废水排放口位置、排放量。3供热说明项目供热方式。环保工程1废气处理设施说明采用的尾气处理设备，说明各类废气处理设施的处理工艺、处理能力、排气筒高度等。2

2、废水处理设施说明各废水处理设施的处理工艺、处理能力等。3噪声防治措施说明采取的噪声防治措施。4固体废物防治措施说明固体废物贮存设施的建设规模、位置。储运工程1硅烷站说明规模、位置。2特种气体站说明规模、位置，存储特种气体的种类。3大宗气体站说明规模、位置，存储大宗气体的种类。依托工程1如有依托工程，应说明。表A.2建设项目主要设备表序号设备名称数量备注一、薄膜制备单元1应填写通用或规范名称应统计所有设备数量（含备用）如利旧，请注明二、光刻单元1应填写通用或规范名称应统计所有设备数量（含备用）如利旧，请注明三、刻蚀单元1应填写通用或规范名称应统计所有设备数量（含备用）如利旧，请注明四、掺杂单元1

3、应填写通用或规范名称应统计所有设备数量（含备用）如利旧，请注明五、金属沉积单元1应填写通用或规范名称应统计所有设备数量（含备用）如利旧，请注明六、化学机械研磨单元1应填写通用或规范名称应统计所有设备数量（含备用）如利旧，请注明七、封装单元1应填写通用或规范名称应统计所有设备数量（含备用）如利旧，请注明八、其他a1应填写通用或规范名称应统计所有设备数量（含备用）如利旧，请注明a涉及清洗工序的生产单元应同时列出相应设备等。表A.3建设项目主要原辅材料及燃料表序号名称主要成分包装规格物态用途年使用量最大存储量存储方式备注a一、主要原辅材料使用情况1填写通用或规范名称说明主要物质成分（至少包括涉及的有

4、毒有害污染物和挥发性有机物）及其占比情况说明物料规格说明固态、液态、气态说明使用单元说明年最大使用量（如回收应说明回收量）说明单次最大存储量（质量单位或包装单位）说明存储容器或场所说明危险特性及理化特性、存储场所二、主要燃料消耗情况1填写燃料名称说明燃料组分说明规格说明固态、液态、气态说明用途说明年最大消耗量（包括生活）说明最大存储能力说明存储方式或输送情况说明危险特性a如栏目空间不够，可另外做表说明。附录B主要生产单元、工序、设备及原辅材料参考表主要生产单元、工序、设备及原辅材料见表氏1。表3.1主要生产单元、工序、设备及原辅材料参考表主要生产单元主要工序主要设备主要原辅材料薄膜制备化学气相

5、沉积常压化学气相沉积设备、等离子体增强化学气相沉积设备硅烷、六氟化铝、四氯化钛、氨、三氟化氮、一氧化二氮、四乙氧基硅烷、氢气、氮气物理气相沉积真空蒸镀设备、磁控溅射设备、直流物理气相沉积设备铝靶材、钛靶材、铜靶材、金靶材、铜靶材、气、氮气热氧化氧化炉、退火设备氯化氢、氧气、氢气、氮气外延分子束外延设备、气相外延设备、液相外延设备二氯硅烷、四氯化硅、氢气、绿、氮气光刻涂胶涂胶机光刻胶、光刻胶稀释剂曝光光刻机氟氟岚显影显影机显影液刻蚀干法刻蚀干法刻蚀机氟化氢、四氟化碳、氯气、溟化氢、六氟化硫、三氟甲烷、六氟化碳、八氟化碳、氧气、氮气、四氟甲烷、六氟乙烷、二氟甲烷、八氟环丁烷干法去胶干法去胶设备氧气

6、湿法刻蚀湿法刻蚀机刻蚀液、氨水、过氧化氢、盐酸、硫酸、氢氟酸、氟化钱、磷酸、硝酸湿法去胶湿法去胶设备去胶液、硫酸、过氧化氢掺杂扩散扩散炉硅烷、二氯硅烷、氨气、氮气、六氯乙硅烷、二异丙基氨基硅烷、氮气离子注入离子注入机硅化氢、磷化氢、硼化氢、僦气、氮气、赦气金属沉积银制程银化学沉积设备硫酸银、甲基磺酸银、平坦剂、加速剂、抑制剂铜制程铜化学沉积设备铜电极、硫酸铜、平坦剂、加速剂、抑制剂金等其他金属制程金属沉积设备亚硫酸金钠、氟化金钾、甲基磺酸锡、甲基磺酸银、平坦剂、加速剂、抑制剂化学机械研磨化学机械研磨研磨机研磨液、纯水封装贴膜减薄贴膜机、研磨机PVC膜、研磨液表面贴装贴片机、上片机、点胶机、回流

7、焊机助焊剂、银胶、焊膏芯片互联键合设备、植球设备焊球、助焊剂、焊条、引线主要生产单元主要工序主要设备主要原辅材料塑封成型塑封压机塑封料电镀电镀设备铜锭、锲锭、锡锭、硫酸、硝酸、平坦剂、加速剂、抑制剂、活化剂、焊膏、甲基磺酸锡、甲基磺酸银、除油粉、甲基磺酸、退镀液、电镀液切割划片机纯水涉及清洗工序的生产单元酸液清洗清洗机硫酸、氢氟酸、硝酸、盐酸、过氧化氢碱液清洗氨水有机溶剂清洗异丙醇附录C（资料性）主要生产流程、单元、工序及产排污类型示例图主要生产流程及产排污类型示例见图C.1。主要单元及产排污类型示例见图C.2。主要工序及产排污类型示例见图C.3。图C.1主要生产流程及产排污类型示例图一加 G

8、UM.袤 q1 W9研H蝮水X AD哂拷埃大X 一仃帆废上、方彳士生，【A G2狂机底气、G5畲。废气_ I W6 含佐 k. W7 M. 水、 WS件餐及式也含14庚小笈制妇工愎物、S6凌戏汽图C.2主要单元及产排污类型示例图（以封装单元为例）,G2ffPG34nL&G4微性废气 IJ Sl废行机溶剂、S3废酸1Iwl含氨或水.W2酸加废4j水、W3含氟废水、W4含I集废水，W5仃机!发水I图C.3主要工序及产排污类型示例图（以清洗工序为例）附录D（资料性）废气主要污染物、废水主要污染物、主要危险废物参考表废气主要污染物见表D.1,废水主要污染物见表D.2,主要危险废物见表D.3。表D.1废

9、气主要污染物参考表类别主要生产单元主要工序废气种类主要污染物处理设施排放去向主体工程薄膜制备化学气相沉积特种废气氯化氢、氮氧化物、二氧化硫、颗粒物、氨、氟化物、氯气、磷化氢、二嗯英a尾气处理设备酸性废气处理系统热氧化特种废气氯化氢、氯气尾气处理设备外延特种废气氯化氢尾气处理设备光刻涂胶有机废气非甲烷总烧、氮氧化物b、二氧化硫b、颗粒物b有机废气处理系统环境曝光特种废气氟化物尾气处理设备酸性废气处理系统显影碱性废气氨碱性废气处理系统环境刻蚀干法刻蚀特种废气氟化物、氯化氢、氯气、氮氧化物二氧化硫、颗粒物、尾气处理设备酸性废气处理系统湿法刻蚀湿法去胶酸性废气氟化物、氯化氢、氮氧化物、硫酸雾、磷酸雾酸

10、性废气处理系统环境有机废气非甲烷总烧、氮氧化物b、二氧化硫b、颗粒物b有机废气处理系统掺杂扩散特种废气氯化氢尾气处理设备酸性废气处理系统离子注入特种废气珅及其化合物尾气处理设备含种废气处理系统环境金属沉积铜制程酸性废气硫酸雾酸性废气处理系统环境金等其他金属制程酸性废气氟化氢C封装表面贴装有机废气含尘废气非甲烷总蜂、锡及其化合物、铅及其化合物、颗粒物封装废气处理系统环境芯片互联有机废气含尘废气非甲烷总嫌、锡及其化合物、铅及其化合物、颗粒物塑封成型有机废气非甲烷总燃电镀酸性废气硫酸雾酸性废气处理系统涉及清洗工序的生产单元酸液清洗酸性废气硫酸雾、氟化物、氮氧化物酸性废气处理系统环境碱液清洗碱性废气氨

11、碱性废气处理系统有机溶剂清洗有机废气非甲烷总烧、氮氧化物b、二氧化硫b、颗粒物b有机废气处理系统辅助工程锅炉天然气燃烧锅炉废气氮氧化物、颗粒物、二氧化硫低氮燃烧器环境环保工生产废废水处理废水处理废硫化氢、氨、臭气浓度水喷淋系统环境程水处理设施气a二嗯英：尾气处理设备采用焚烧工艺可能产生。b氮氧化物、二氧化硫、颗粒物：有机废气处理设备采用焚烧工艺可能产生。C氟化氢：使用含氟金属沉积工艺产生。表D.2废水主要污染物参考表类别主要生产单元主要工序废水种类主要污染物处理系统排水去向主体工程光刻显影含氨废水PH值、悬浮物、五日生化需氧量、化学需氧量、氨氮、总氮含氨废水处理系统含氟废水处理系统刻蚀湿法刻蚀

12、湿法去胶酸碱废水PH值、悬浮物、五日生化需氧量、化学需氧量酸碱废水处理系统中和处理系统含氨废水PH值、悬浮物、五日生化需氧量、化学需氧量、氨氮、总氮含氨废水处理系统含氟废水处理系统含氟废水PH值、悬浮物、五日生化需氧量、化学需氧量、氟化物含氟废水处理系统中和处理系统含磷废水PH值、悬浮物、五日生化需氧量、化学需氧量、总磷有机废水PH值、悬浮物、五日生化需氧量、化学需氧量、总有机碳有机废水处理系统金属沉积锲制程含银废水PH值、悬浮物、五日生化需氧量、化学需氧量、总银含银废水处理系统中和处理系统铜制程含铜废水PH值、悬浮物、五日生化需氧量、化学需氧量、总铜含铜废水处理系统金等其他金属制程含氟及其他含金属废水PH值、悬浮物、五日生化需氧量、化学需氧量、总氟化物、总银等其他含金屈废水处理系统a化学机械研磨化学机械研磨研磨废水PH值、悬浮物、五日生化需氧量、化学需氧量、总碑b研磨废水处理系统中和处理系统封装贴膜减薄研磨废水PH值、悬浮物、五日生化需氧量、化学需氧量研磨废水处理系统中和处理系统电镀含银废水PH值、悬浮物、五日生化需氧量、化学需氧量、总银含银废水处理系统含铜废水PH值、悬浮物、五日生化需氧量、