第五章采购内容及技术要求.docx

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1、第五章采购内容及技术要求1 .快速进样室(包括相关部件及支架)1.1 快速进样腔体材质为304不锈钢,为柱状腔体,内部表面经过真空标准电解抛光处理;1.2 经充分烘烤后,快速进样室本底真空好于2X10“mbar;1.3 快速进样室配备对N2的抽速抽速不低于90L/s的进口分子泵;1.4 快速进样室配有抽速不低于6h的进口无油涡旋干泵,并配有电磁阀,皮拉尼规;1.5 快速进样室配有一个全量程规,量程为5X10-9Booombar;1.6 快速进样室配有磁力杆和角度调节器;1.7 快速进样室配有储样台,可以放置三个样品和一个靶材;1.8 快速进样室配有CF63快开门;1.9 快速进样室配有手动放气

2、阀;1.10 快速进样室含支架;1.11 快速进样室与PLD有预留接口,用CF63闸板阀连接;2 .PLD真空腔室(包括真空部件和支架)2.1 腔体为无磁304不锈钢,为D350柱状腔体,内部表面经过真空标准电解抛光处理;2.2 PLD腔室在充分烘烤后,本底真空好于IX10mbar;2.3 PLD腔室配有抽速不低于11.4m3h的进口防腐蚀干泵,和对N2的抽速不低于720LZs进口分子泵以实现真空,分子泵与腔室通过CF160进口手动闸板阀连接,配有电磁阀,皮拉尼规;2.4 PLD腔室与快速进样室之间用CF63进口手动闸板阀连接;2.5 PLD腔配有量程为IO4到0.1TOrr的进口薄膜规,专门

3、用于精确控制生长时的工艺压力;2.6 腔室配有一根机械手和抓手,用于与主腔体传样;2.7 配有一个进口紫外(DUV)专用视窗;2.8 配有一个进口红外加热(DUV)专用视窗;2.9 配有一个DN40CF玻璃视窗,用于红外测温仪测量;2.10 腔体上预留RHEED,荧光屏的法兰接口;2.11 含有水泥墩子用于减少干泵振动对镀膜过程的影响;3 .磁控真空腔室(包括真空部件和支架)3.1 腔体材质为无磁304不锈钢,为D300柱状腔体,内部表面经过真空标准电解抛光处理,本地真空好于lXl(y8rnbar;3.2 磁控腔室通过旁抽气路与PLD腔共用分子泵组;3.3 磁控腔室与PLD腔室用CFlOO的进

4、口闸板阀隔开;3.4 万兹控腔室配有磁耦合式机械手,实现与PLD腔室之间进行传样;3.5 万兹控腔室配有进口全量程规管,CF35,5IO9to1000mbar,并配有线缆;3.6 磁控腔室配有CF160快开门方便换靶;3.7 磁控腔室配有CFlOO的视窗,并配有视窗挡板;4 .磁控样品台组件4.1 配有旋转加热样品台,安装法兰CF160,样品托尺寸15mm18mm(flag-type),样品可以通过辐射方式加热,最高加热温度800C,通过PlD温控仪实现温度精确控制4.2 样品台可以手动升降;4.3 样品台配有手动挡板;5 .磁控工艺气路5.1 配有2个工艺气路,每个气路分别配有1个进口流量计

5、(0200seem),流量计带有计算机通讯接口,每个流量计与腔体之间配有1个手动针阀;5.2 配有流量计控制器6 .PLD样品台组件(五维激光加热样品台)6.1 样品尺寸:5mmX5mm6.2 样品台Xy方向行程:12.5mm,精度0.1mm,通过千分尺控制;Z方向行程:100mm,精度1mm,配合15mmX18mm(flag-type)旗形样品托使用;6.3 样品台可实现样品面内与绕轴(360)旋转;6.4 配套3套激光加热样品托,兼容旗形样品托(flag-type);6.5 衬底配有手动挡板7 .PLD红外激光加热组件7.1 系统配有功率不小于200W,工业级红外激光器(含电源和光纤);7

6、.2 配有手动调节红外激光光纤支架及光路;7.3 样品可在IOPa臭氧环境中加热至85(C,真空环境加热至1000oC,5mm5mm样品的温度均匀性好于1%;7.4 配有红外测温仪3001400。C含控制器,用于测量样品温度,可以通过软件实现样品的精确控温;8 .PLD靶台组件8.1 PLD腔体底部装有一个DN200CF靶台,配有同时安装6个1英寸靶;8.2 Z方向移动:050mm,手动;8.3 电动切换靶位;8.4 靶台可以公转(用于选靶),靶台可以自转,并可以通过公转摆动实现靶面扫描功能,公转、自转由步进马达驱动。靶台自转和公转摆动可以在激光束不动的情况下,使激光相对扫过整个靶材表面,从而

7、保证激发出的等离子体羽辉位置、角度都不发生改变;9 .PLD准分子激光光路9.1 全反镜2个,70mm,反射率R98%;9.2 熔融石英聚焦透镜,70mm,焦距f=50cm;9.3 配有手动调节紫外激光光纤支架及光路;9.4 配有激光器支架及防护罩;9.5 配有1个四刀口可调光阑(手动),安装于激光出光口,可以根据需要改变激光光通量;10 .自动控制(包含电脑,机柜及自动控温烘烤装置及控制软件)10.1 配有控制机柜,用于放置各种控制电源,并配有机柜总电源;10.2 配有1台工业电脑用于安装RHEED软件以及系统控制软件;10.3 配有系统控制软件;10.4 配有显示器支架;10.5 配有LE

8、D照明装置;10.6 配有双通道真空泵组控制器;10.7 配有四通道真空规控制器;11 .电动挡板(磁控和PLD腔室各一套)11.1 配有一维电动挡板,CF40,移动距离150mm;11.2 通过光栅尺进行精确定位;11.3 可通过软件控制电动挡板的移动速度和方向;12 .PLD薄膜表征组件12.1 系统配有能量最高可达30kV,工作气压最高可达0.4TOrr(50pa)的torrRHEED电子枪,用于样品表面形貌表征与样品层厚标定,采用高稳压电源,保证电子束的能力稳定性优于IO4rad,工作距离为150mm时,电子束斑最小可达50m;12.2 配有U-金属屏蔽罩;12.3 配有荧光屏和挡板;

9、12.4 含差分泵组:两个对Nz的抽速抽速不低于90LzS的进口分子泵,一个抽速不低于6m3h的进口无油涡旋耐腐蚀干泵;12.5 配有DN40CF进口闸板阀;12.6 配有可调焦镜头,进口CCD(电荷耦合元件的英文简称)和原厂数据采集软件;软件能够对所选的三个区域进行数据采集,可同时记录三个点RHEED的震荡曲线,并能进行数据处理、保存;配有遮光罩,防止外界光线干扰;13.臭氧气路1.1 1臭氧发生器,15%浓度;1.2 2臭氧尾气灭活装置;1.3 3防腐蚀臭氧管路,在真空腔内部具有延长管(导流管),使样品表面产生局部高氧压;1.4 4蓝宝石密封漏阀;14 .磁控靶枪电源14.1 配2个进口超

10、高真空兼容2inch标准永磁靶,配有CFlOO安装法兰,配有挡板,带水冷,射频直流兼容,带有靶罩(chimney),防止交叉污染;14.2 配2个进口超高真空兼容2inch标准强磁靶,配有CFlOO安装法兰,配有挡板,带水冷,射频直流兼容,带有靶罩(chimney),防止交叉污染;14.3 配3个进口IKW直流电源,含线缆,为磁控靶枪同一原厂的产品;14.4 配1个最大功率可达300W的进口射频电源,含线缆,输出功率0300W,输出阻抗50Ohms,5OhmsNominal,谐频-50dBc,脉冲0IKHz,1HzSteps,50微秒最小脉冲;14.5 配1个高精度膜厚仪,精度0.01A,超高真空探头,配有线性移动位移器,可实现探头的缩进;15 .减震组件15.1 所有分子泵都通过波纹管和橡胶做减震;16 .分束镜16.1 配有beamsplit分束镜,248nm,实现两台PLD系统的同时使用;17 .将原有PLD系统恢复到可以正常使用的状态;18 .系统集成与安装调试

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