掩模版行业行业深度分析报告：政策法规、发展情况和趋势、主要企业.docx

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1、掩模版行业行业深度分析报告（政策法规、发展情况和趋势、主要企业）2024年7月一、行业主管部门、行业监管机制、行业主要法律法规政策1（一）行业主管部门及监管体制1（一）行业法律法规及政策11、行业主要法律法规12、主要法律法规对行业经营生产的影响4二、行业发展状况4（一）半导体掩模版行业概况4（二）独立第三方掩模版厂商市场份额将不断增大6（三）半导体掩模版行业具有较高的需求稳定性6（四）半导体掩模版市场需求分析7三、行业未来发展趋势8（一）逻辑工艺路线和特色工艺路线是半导体发展的两大方向.9（-）半导体掩模版最小线宽及精度随着半导体技术节点的进步而不断提升11（三）特色工艺半导体快速发展，对掩

2、模版定制化要求越来越高11四、行业面临的机遇和挑战12（-*）面临的机遇121、半导体受下游新兴产业推动，产线持续扩张，带来半导体掩模版的大量需求123、半导体掩模版迎来国产替代机遇15（二）面临的挑战151、我国掩模版产业链配套能力有待加强152、国际竞争力、品牌影响力有待提升153,行业高端人才紧缺16五、行业技术特点16-）光的衍射会降低曝光图形分辨率，导致CD精度降低16（：）光的干涉会降低曝光图形对比度，导致CD精度降低.17（三）半导体掩模版的套刻层数越来越多，位置/套刻精度控制难度越来越大18六、行业内的主要企业19（*）Photronics（福尼克斯）19（二）Toppan（日

3、本凸版印刷株式会社）19（三）DNP（大日本印刷株式会社）20（四）中国台湾光罩20（五）中微掩模20（六）迪思微20（七）路维光电202018年IO月国家统计局指出“战略性新兴产业是以重大技术突破和篁大发展需求为基础，对经济社会全局和长远发展具有重大引领带动作用，知识技术密集、物质资源消耗少、成长潜力大、综合效益好的产业”，并将“半导体分立器件制造”、“集成电路设计”、“功率晶体管”、“新型片式元件”、“金属氧化物半导体场效应管（MOSFET）”、“功率肖特基二极管”列为战略新兴产业。2、主要法律法规对行业经营生产的影响国家相关支持政策明确r半导体行业在国民经济中的战略地位。掩模版作为半导体

4、产业的上游核心材料，技术壁垒高，国内自产率低，长期依赖国外进口，在当前贸易摩擦、半导体产业逆全球化的国际形势下，国产替代大势所趋。“十四五”国家信息化发展规划中提出：“加快集成电路关键技术攻关加快集成电路设计工具、重点装备和高纯靶材等关键材料研发，推动绝缘栅双极型晶体管（IGBT）.微机电系统（MEMS）等特色工艺突破”：新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策提出：“进一步优化集成电路产业和软件产业发展环境，在财税、投融资、研究开发、人才、知识产权等方面给予集成电路产业和软件诸多优惠政策。明确在规定的时期内，线宽小于0.25微米（含）的特色工艺集成电路生产企业（含掩模版）进口用生

5、产性原材料、消耗品等，免征进口关税。”上述一系列政策和法规的发布和落实，从财政、税收、技术、人才、知识产权等多个角度对半导体产业及其关键材料给予了政策支持,为掩模版行业及其上下游行业创造了良好的经营环境，有力地推动了我国半导体掩模版行业的发展。二、行业发展状况（一）半导体掩模版行业概况半导体掩模版生产厂商可以分为晶圆厂自建配套工厂和独立第三方掩模厂商两大类。由于28nm及以下的先进制程晶圆制造工艺复杂且难度大，各家用于芯片制造的掩模版涉及晶圆制造厂的重要工艺机密且制造难度较大，因此先进制程晶圆制造厂商所用的掩模版大部分由自1.1.的专业工厂内部生产，如英特尔、三星、台积电、中芯国际等公司的掩模版均主要由自制掩模版部门提供。时于28nm以上等较为成熟的制程所用的掩模版，芯片制造厂商为了降低成本，在满足技术要求下，更倾向于向独立第三方掩模版厂商进行采购。根据贝恩咨询发布的中国半导体白皮书，全球晶圆制造代工收入中28nm以上制程的收入占比约为55.38%,占据晶圆代工大部分收入。根据SEM1.数据，在全球半导体掩模版市场，晶圆J.自行配套的掩模版工厂规模占比65%,独立第三方掩模厂商规模占比35%,其中独立笫三方掩模版J场主要被美国Photronics、日本ToPPan和日本DNP三家公司所控制，三者共占八成以上的市场规模，市场集中度较高。